大部分氧化物薄膜具有相似的性能，一般的氧化物材料，如氧化鋁薄膜和二氧化硅薄膜，具有耐高溫、抗熱震、高機(jī)械強(qiáng)度和硬度等擁有屬性。

三氧化二鋁材料可以作為研究一種很常用的高折射率材料進(jìn)行廣泛應(yīng)用于多層膜介質(zhì)膜中。三氧化二鋁薄膜因其具有光學(xué)系統(tǒng)性能以及優(yōu)良、機(jī)械設(shè)計強(qiáng)度與硬度高、透明性與絕緣性好、耐磨、抗蝕及化學(xué)惰性等特點(diǎn)而引起社會人們帶來極大的興趣，已經(jīng)開始廣泛地應(yīng)用于光學(xué)工程領(lǐng)域。其薄膜的光學(xué)特性更加強(qiáng)烈依賴于鍍膜工藝生產(chǎn)條件和雜質(zhì)污染等其他影響因素。其在鍍膜工藝過程中常常因為它自身的穩(wěn)定性，作為我們最后通過一層膜做保護(hù)層。

三氧化二鋁

三氧化二鋁薄膜對光纖進(jìn)行摻雜來說是一個很有吸引力的一種學(xué)習(xí)材料，這是我們因為我國氧化鋁在可見光和近紅外目標(biāo)區(qū)域發(fā)展沒有可以吸收峰。摻鉺光纖放大器在石英模光纖最低生活能耗波長1.55um處具有增益高、噪聲低、頻帶寬及飽和輸出系統(tǒng)功率大等特點(diǎn)，所以在光纖網(wǎng)絡(luò)通信技術(shù)中被學(xué)生作為研究中繼放大器、功率放大器和前置放大器，是實(shí)現(xiàn)全光傳輸?shù)暮诵墓δ懿考?/span>

二氧化硅

二氧化硅是唯一的低折射率氧化物，低折射率為1.46。作為一種重要的納米薄膜材料，二氧化硅薄膜具有廣闊的透明面積(0.15-8微米)、高硬度、低熱膨脹系數(shù)、耐摩擦、耐酸堿、耐腐蝕等優(yōu)點(diǎn)，廣泛應(yīng)用于光學(xué)薄膜器件、半導(dǎo)體集成電路、電子器件、傳感器、激光器件、化學(xué)催化、生物醫(yī)學(xué)、表面改性、藥品包裝等領(lǐng)域。